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Individuelles Metallziel für Sputterbeschichtungen Ein- oder Mehrfachkonfiguration Ra 0,8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
99.99% Reinheit Metallziel mit polierter Oberflächenkristallstruktur
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
Individuell angefertigte Einzel-/Mehrfachreinigungsspritzziele mit polierter Oberfläche
| Substrate Compatibility: | Customized |
|---|---|
| Purity: | 99.99% |
| Density: | Customized |
Hochreine Sputterziele für die Dünnschichtdeposition mit präziser Kontrolle
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Coating Method: | Sputtering |
Individuell angepasster runder Schmelzgleimpistol Freifall-Metalldetektor für polierte Oberflächen
| Shape: | Round |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Thickness: | 10-600mm |
Rundpolierte Fördermaschinen Metalldetektor Reinheit 99,99%
| Shape: | Round |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Material: | Metal |
Zuverlässige Zirkoniumrohrplatten und -scheiben mit kundenspezifischer Herstellung und Durchmesser von 5 bis 600 mm
| Custom: | Available |
|---|---|
| Density: | 6.52 G/cm3 |
| Customization: | Yes |
990,9% reines Zirkonium 702 Rohre und Platten mit Hexkopf oder Flansche
| Package: | Wooden Box |
|---|---|
| Density: | 6.52 G/cm3 |
| Applications: | Nuclear Reactors, Chemical Processing, Medical Implants, Jewelry |
Reinheit Zirkonie Schweißkeramik mit Ra=1.6 Oberflächenrauheit
| Customization: | Yes |
|---|---|
| Density: | 6.52 G/cm3 |
| Package: | Wooden Box |
Indiumgebundenes Metall mit hoher Reinheit als Sputterziel für verschiedene Substrate
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Thickness: | 10-600mm |
| Surface Finish: | Polished |

