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Titanspritzerziel 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr für PVD-Beschichtung
| Materialien: | Titanium |
|---|---|
| Zulassung: | Grad 1 |
| Überdosis: | 90-600mm |
Titandisc-Ziele 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm für falsche Zähne
| Größe: | Individualisiert |
|---|---|
| Typ der Zielgruppe: | Drehbar |
| Dichte: | Individualisiert |
99.995% Reinheit Titan Sputtering Ziel PVD Beschichtung Rotorrohr Ziele
| Produktbezeichnung: | Titaniumrohrziele |
|---|---|
| Material: | Reintitan Grad 1 |
| Reinheit: | 99.9%-99.999% |
PVD-Metallsputtering Ziel 100x40mm Dekoration und Werkzeugbeschichtung
| Grain Size: | < 100 um |
|---|---|
| Typ: | Spritzenziel |
| Technische: | Rollen, geschmiedet, CNC |
OEM PVD 5N+ 99,9995% Titan-Ziele Halbleiter mit hoher Reinheit
| Produktbezeichnung: | Halbleiter-Titanium-Zielmaterial |
|---|---|
| Reinheit: | 5N+(99,9993%-99,9995%) |
| Grain Size: | < 100 um |
990,9%-99,999% Reinheit Dünnschicht Ablagerung Titanziele 3N-5N Titan-Sputterziele
| Produktbezeichnung: | Titanziele für die Dünnschichtdeposition |
|---|---|
| Material: | reines Titan |
| Reinheit: | 3N-5N |
Individuell angefertigte Einzel-/Mehrfachreinigungsspritzziele mit polierter Oberfläche
| Substrate Compatibility: | Customized |
|---|---|
| Purity: | 99.99% |
| Density: | Customized |
99.99% Reinheit Metallziel mit polierter Oberflächenkristallstruktur
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
Individuelles Metallziel für Sputterbeschichtungen Ein- oder Mehrfachkonfiguration Ra 0,8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
Indium-Legierung Sputtering Ziel mit kundenspezifischen Substraten poliert und anodiert
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |