CHINA Titanspritzerziel 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr für PVD-Beschichtung

Titanspritzerziel 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr für PVD-Beschichtung

Materialien: Titanium
Zulassung: Grad 1
Überdosis: 90-600mm
CHINA Kundenspezifisches Metall-Sputterkathoden-Target mit überlegener Leitfähigkeit und gleichmäßiger Dicke für industrielle Beschichtungsprozesse

Kundenspezifisches Metall-Sputterkathoden-Target mit überlegener Leitfähigkeit und gleichmäßiger Dicke für industrielle Beschichtungsprozesse

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CHINA Titanium Ti Ti-Al Zr Cr Sputtering Target Disc für die PVD-Beschichtung

Titanium Ti Ti-Al Zr Cr Sputtering Target Disc für die PVD-Beschichtung

Typ der Zielgruppe: Planar
Zusammensetzung: Angepasst
Zielunterstützung: Kupfer, Ti-Al, Titan, individuell angefertigt
CHINA Titanium-Ziele 98*10mm 98*12mm 98*14mm 98*16mn 98*20mm Für falsche Zähne

Titanium-Ziele 98*10mm 98*12mm 98*14mm 98*16mn 98*20mm Für falsche Zähne

Härte: Angepasst
Zielunterstützung: Kupfer, Aluminium, Titan, individuell angefertigt
Oberflächenrauheit: Angepasst
CHINA Ti-Ti-Al Fe Cu Zr Cr Sputterziele für Halbleiter 100*40mm 95*45mm

Ti-Ti-Al Fe Cu Zr Cr Sputterziele für Halbleiter 100*40mm 95*45mm

Typ der Zielgruppe: Rotatierbar
Zielunterstützung: Kupfer, Aluminium, Titan, individuell angefertigt
Materialien: Titan
CHINA Falschzahn Gr5 ELI Titandisc 98*12mm 98*18mm 98*20mm für die PVD-Beschichtung

Falschzahn Gr5 ELI Titandisc 98*12mm 98*18mm 98*20mm für die PVD-Beschichtung

Farbe: Metallfarbe
Typ der Zielgruppe: Rotatierbar
Oberflächenbeschaffung: Poliert
CHINA Ti Ti-Al Zr Cr Fe Cu PVD Beschichtung Sputterziele 100*40mm 95*45mm 98*10mm

Ti Ti-Al Zr Cr Fe Cu PVD Beschichtung Sputterziele 100*40mm 95*45mm 98*10mm

Elektrische Leitfähigkeit: Angepasst
Grad: Grad 1
Standard: ASTM F67, ASTM F136/ISO 5832-2
CHINA Ti-Ti-Al Zr Cr Metall-Spruttering-Ziel für PVD-Beschichtung 100*40mm Warmverkauf

Ti-Ti-Al Zr Cr Metall-Spruttering-Ziel für PVD-Beschichtung 100*40mm Warmverkauf

Technisch: Rollen, geschmiedet, CNC
Dichte: Angepasst
Typ der Zielgruppe: Rotatierbar
CHINA Titanium SS 304 PVD Beschichtung Sputtering Ziele 100*40mm 95*45mm 98*10mm für Industrie

Titanium SS 304 PVD Beschichtung Sputtering Ziele 100*40mm 95*45mm 98*10mm für Industrie

Oberfläche: Poliert, Beizen, Eloxieren
Zusammensetzung: Angepasst
Elektrische Leitfähigkeit: Angepasst
CHINA Hochreine Chrom-Chrom-Sputter-Zielplattenform für PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreine Chrom-Chrom-Sputter-Zielplattenform für PVD-Beschichtungsmaschine

Oberflächenbeschaffung: Poliert
Beschichtungsmethode: Sputtern
Oberfläche: Polierte und anodisierte
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