Kundenspezifisches Metall-Sputterkathoden-Target mit überlegener Leitfähigkeit und gleichmäßiger Dicke für industrielle Beschichtungsprozesse

Beschreibung des Produkts:

Das Metallsputtering-Ziel ist eine kritische Komponente, die im Bereich der Dünnschicht-Abscheidungstechnologien, insbesondere in physikalischen Dampf-Abscheidungsprozessen (PVD) weit verbreitet ist.Als hochwertiges Metallsputter-Kathodenziel, ist es für eine außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit in verschiedenen Industrie- und Forschungsanwendungen konzipiert.Dieses Produkt dient als Ausgangsmaterial, das zerlegt und auf Substrate abgelagert wird, um einheitliche, hochreine Metallbeschichtungen, so dass es in der Halbleiterherstellung, optischen Beschichtungen, dekorativen Oberflächen und fortschrittlicher Elektronik unverzichtbar ist.

Hergestellt aus hochwertigen Metallen, gewährleistet das Metall-Sputtering-Ziel eine überlegene Reinheit und strukturelle Integrität.die für eine konstante Sputterrate und eine optimale Filmqualität unerlässlich sindDas Ziel ist so konzipiert, dass es den strengen Bedingungen der Sputterkammern standhält, einschließlich hoher Vakuumumbedingungen, intensiver Plasmabombardierung und erhöhter Temperaturen.Diese Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für physikalische Dampfablagerung Ziel-Anwendungen, wo Haltbarkeit und Präzision von größter Bedeutung sind.

Eine der herausragenden Eigenschaften dieses Metal Sputtering Cathode Targets ist seine Vielseitigkeit.die Verwendung mit einer breiten Palette von Geräten und Prozessen ermöglichtDiese Flexibilität ermöglicht es Herstellern und Forschern, ihre Beschichtungsprozesse an spezifische Materialien und Dickenanforderungen anzupassen, wodurch letztendlich die Leistung des Endprodukts verbessert wird.Ob die Anwendung dünne leitfähige Schichten für Mikroelektronik oder robuste Schutzbeschichtungen für industrielle Bauteile erfordert, liefert dieses Sputterziel einheitliche und qualitativ hochwertige Ergebnisse.

Das Metallbeschichtungs-Sputtering-Ziel zeichnet sich auch durch seine präzisen Abmessungstoleranzen und Oberflächenveredelung aus.Um eine flache und einheitliche Form zu gewährleisten, werden sorgfältig bearbeitet und poliertDiese Aufmerksamkeit auf das Detail minimiert die Defekte in den abgelagerten Filmen und verlängert die Lebensdauer des Ziels.Verringerung der Ausfallzeiten und Betriebskosten für die NutzerDarüber hinaus kann das Design des Ziels angepasst werden, um spezifische Anforderungen an Größe und Form zu erfüllen, um einzigartige Sputtering-Systeme zu ermöglichen und die Materialnutzung zu maximieren.

In Bezug auf die Materialauswahl ist das Metall-Sputtering-Ziel in einer Vielzahl von Metallen erhältlich, darunter Aluminium, Kupfer, Titan, Nickel, Wolfram,und Edelmetalle wie Gold und PlatinJede Metallwahl bietet unterschiedliche physikalische und chemische Eigenschaften, die unterschiedlichen Anwendungsbedürfnissen gerecht werden.Aluminiumziele werden wegen ihrer hervorragenden Leitfähigkeit und Reflexionsfähigkeit bevorzugt, während Titanziele eine überlegene Korrosionsbeständigkeit und Festigkeit bieten.Diese Materialpalette sorgt dafür, dass die Benutzer das ideale Ziel auswählen können, um ihren Beschichtungsprozess und die Produktleistung zu optimieren.

Darüber hinaus beinhaltet der Herstellungsprozess des Metallsputtering-Kathodenziels fortschrittliche metallurgische Techniken wie Vakuumschmelzen, Heißschmieden und Heißwalzen.die die Homogenität des Ziels erhöhen und Verunreinigungen minimierenDiese Prozesse tragen zu einer verbesserten Sputtereffizienz und Filmhafte, die für leistungsstarke Beschichtungen von entscheidender Bedeutung sind, bei.einschließlich chemischer Analyse und zerstörungsfreier Prüfung, werden strikt angewandt, um sicherzustellen, dass jedes Ziel strenge Branchenstandards erfüllt.

Insgesamt ist das Metall-Sputtering-Ziel ein wichtiger Bestandteil für die Erzielung überlegener Beschichtungsergebnisse in physikalischen Dampfdeposition-Prozessen.und die Kompatibilität mit verschiedenen Sputterverfahren machen es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Herstellung zuverlässiger und hochwertiger dünner Filme.. Ob als Metallsputter-Kathodenziel in der Halbleiterherstellung oder als Metallbeschichtungsputterziel in dekorativen und schützenden Beschichtungen verwendet,Dieses Produkt liefert beständig ausgezeichnete Leistung., Haltbarkeit und Wert.

Die Wahl des richtigen Metallsputterzieles kann die Effizienz und Qualität des Sputterprozesses erheblich beeinflussen.Nutzer profitieren von einer verbesserten FilmgleichheitDies führt letztendlich zu verbesserten Produktionserträgen, geringeren Wartungskosten und besseren Endprodukteigenschaften.Für Industriezweige, die Präzision und Exzellenz bei Dünnschichtbeschichtungen verlangen, die Metallsputtering Target als zuverlässige und leistungsstarke Lösung hervorstecht.

Eigenschaften:

• Hochreines Metallziel, das eine überlegene Beschichtungsqualität gewährleistet
• als Ziel für die Metallsputterquelle für eine effiziente Materialablagerung konzipiert
• Ausgezeichnete Einheitlichkeit und Dichte für eine gleichbleibende Sputterleistung
• Kompatibel mit verschiedenen Sputtersystemen und Anwendungen
• Dauerhafte und zuverlässige Metallsputterquelle Ziel für lange Lebensdauer
• Erhältlich in verschiedenen Metallzusammensetzungen für verschiedene industrielle Bedürfnisse
• Präzisionsfertigung nach strengen Industriestandards

Technische Parameter:

Anwendungen:

Das Changsheng Metal Sputtering Target, das in den Modellen ASTM F67, ASTM F136 und ASTM B381 erhältlich ist, ist ein hochwertiges Produkt, das für verschiedene fortschrittliche industrielle Anwendungen entwickelt wurde.Als hochreines Metall, spielt eine entscheidende Rolle bei Dünnschicht-Ablagerungsprozessen und sorgt für eine überlegene Beschichtungsleistung und Konsistenz.Dieses Produkt garantiert Zuverlässigkeit und Qualität für den professionellen Gebrauch.

Einer der wichtigsten Anwendungsbereiche für das Changsheng Metall-Sputtering-Ziel ist die Halbleiter- und Elektronikindustrie.Das Industrie-Metall-Sputtering-Ziel ist für die Herstellung von mikroelektronischen Geräten unerlässlich.Die hohe Reinheit sorgt für eine minimale Kontamination, was zu leistungsstarken elektronischen Komponenten mit verbesserter Langlebigkeit und Effizienz führt.Dies macht es ideal für den Einsatz in Reinräumen, wo Präzision und Qualität von größter Bedeutung sind.

Neben der Elektronik wird dieses Dünnschicht-Abscheidungsziel in der Produktion von optischen Beschichtungen eingesetzt.mit einer Breite von mehr als 20 mm,Die Changsheng-Sputterziele bieten eine gleichbleibende Komposition.der für die Herstellung gleichförmiger dünner Folien mit ausgezeichneter Haftung und optischen Eigenschaften entscheidend ist.

Das Changsheng Metal Sputtering Target wird auch in der Automobil- und Luftfahrtindustrie für die Einlagerung von Schutz- und Dekorationsbeschichtungen auf verschiedene Metallteile eingesetzt.Die industriellen Ziele helfen, die Korrosionsbeständigkeit zu erhöhen, Verschleißbeständigkeit und ästhetische Anziehungskraft, wodurch die Lebensdauer kritischer Komponenten unter rauen Betriebsbedingungen verlängert wird.000 Stück pro Monat und eine Mindestbestellmenge von 200 Stück, unterstützt das Produkt effizient den Bedarf an Großanlagen.

Unternehmen profitieren von flexiblen Zahlungsbedingungen wie L/C, T/T, Western Union, MoneyGram und PayPal, wodurch die Beschaffung reibungslos und bequem erfolgt.Jede Bestellung wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpacktDie Lieferzeit beträgt typischerweise 15 bis 20 Werktage, um eine rechtzeitige Lieferung für laufende Produktionspläne zu gewährleisten.

Der Changsheng Metall-Sputter-Ziel bietet einen wettbewerbsfähigen Preis von 24 USD pro Stück und bietet einen ausgezeichneten Wert, ohne dabei auf die Qualität zu verzichten.und die Einhaltung internationaler Qualitätsstandards machen es zu einem unverzichtbaren Material für Organisationen, die sich weltweit mit Dünnschichtdeponierungen und fortschrittlichen Beschichtungstechnologien befassen.

Unterstützung und Dienstleistungen:

Unsere Metallsputterziele sind für außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit in Dünnschicht-Ablagerungsprozessen konzipiert.Wir bieten umfassende Unterstützung, einschließlich der Anleitung bei der Auswahl des Materials, kundenspezifische Zielfabrikation und Fehlerbehebungsberatung zur Optimierung Ihrer Sputtering-Anwendungen.

Wir bieten Ihnen eine fachkundige Beratung an, um Ihnen bei der Auswahl der richtigen Zielzusammensetzung und -größe zu helfen, die Ihren spezifischen Anforderungen entspricht.Unser Team kann auch mit Zielinstallationsverfahren und Wartung Tipps helfen, um maximale Lebensdauer und gleichbleibende Filmqualität zu gewährleisten.

Zusätzlich zu den Standardprodukten bieten wir kundenspezifische Dienstleistungen an, wie z. B. Legierungsziele, Verbundziele und Ziele mit speziellen Stützplatten oder Bindematerialien.Unsere Qualitätskontrolle gewährleistet, dass jedes Ziel strenge Reinheits- und Dimensionsvorgaben erfüllt..

Für technische Anfragen oder Serviceanfragen bezogen auf unsere Metall-Sputterziele,Unser Support-Team ist bestrebt, zeitnahe und effektive Lösungen zu liefern, um Ihren Herstellungsprozess und Ihren Produktertrag zu verbessern..

Verpackung und Versand:

Verpackung und Versand

Unsere Metallsputterziele sind sorgfältig verpackt, um eine sichere Lieferung zu gewährleisten und die Produktintegrität zu erhalten.Jedes Ziel wird in Schutzmaterialien eingewickelt, um Oberflächenbeschädigungen und Kontamination während des Transports zu verhindern.

Die Ziele werden dann in robuste, maßgeschneiderte Kästchen mit ausreichender Dämpfung gelegt, um Schocks und Vibrationen zu absorbieren.Auslöschmittel und antistatische Beutel werden verwendet, um die Qualität des Zielprodukts zu erhalten und eine Oxidation zu verhindern..

Wir bieten verschiedene Versandmöglichkeiten an, um Ihren Lieferanforderungen gerecht zu werden, einschließlich Standard-, Express- und Frachtdienstleistungen.

Nach Erhalt Ihrer Bestellung überprüfen Sie bitte unverzüglich die Verpackung und das Produkt.

Häufige Fragen:

F1: Welche Marken- und Modellnummern gibt es für das Metallsputtering-Ziel?

A1: Das Metallsputterziel wird unter der Marke Changsheng angeboten und ist in den Modellnummern ASTM F67, ASTM F136 und ASTM B381 erhältlich.

F2: Welche Zertifizierungen hat das Metall-Sprutzing-Ziel?

A2: Das Produkt ist nach ISO 9001 zertifiziert:2015, um sicherzustellen, dass die Qualitätsmanagementstandards eingehalten werden.

F3: Was ist die Mindestbestellmenge und der Preis pro Stück?

A3: Die Mindestbestellmenge beträgt 200 Stück und der Preis beträgt 24 USD pro Stück.

F4: Welche Zahlungsmethoden werden für den Kauf des Metallsputtering-Ziels akzeptiert?

A4: Wir akzeptieren die Zahlung per L/C, T/T, Western Union, MoneyGram und PayPal.

F5: Wie sind die typischen Lieferzeiten und Verpackungen für das Metallsputterziel?

A5: Die Lieferzeit beträgt in der Regel 15 bis 20 Werktage. Die Verpackung erfolgt in Holzkisten oder Kartons und kann nach Kundenanforderungen angepasst werden.