CHINA Individuelles Metallziel für Sputterbeschichtungen Ein- oder Mehrfachkonfiguration Ra 0,8 Um

Individuelles Metallziel für Sputterbeschichtungen Ein- oder Mehrfachkonfiguration Ra 0,8 Um

Coating Method: Sputtering
Technique: Forged And CNC Machined
Target Configuration: Single Or Multiple
CHINA Indium-Legierung Sputtering Ziel mit kundenspezifischen Substraten poliert und anodiert

Indium-Legierung Sputtering Ziel mit kundenspezifischen Substraten poliert und anodiert

Target Bonding: Indium
Substrate Compatibility: Customized
Surface Roughness: Ra < 0.8 Um
CHINA Rundpolierte Fördermaschinen Metalldetektor Reinheit 99,99%

Rundpolierte Fördermaschinen Metalldetektor Reinheit 99,99%

Shape: Round
Surface Finish: Polished
Material: Metal
CHINA Individuell angepasster runder Schmelzgleimpistol Freifall-Metalldetektor für polierte Oberflächen

Individuell angepasster runder Schmelzgleimpistol Freifall-Metalldetektor für polierte Oberflächen

Shape: Round
Substrate Compatibility: Customized
Thickness: 10-600mm
CHINA Hochreine Sputterziele für die Dünnschichtdeposition mit präziser Kontrolle

Hochreine Sputterziele für die Dünnschichtdeposition mit präziser Kontrolle

Target Configuration: Single Or Multiple
Technique: Forged And CNC Machined
Coating Method: Sputtering
CHINA Indiumgebundenes Metall mit hoher Reinheit als Sputterziel für verschiedene Substrate

Indiumgebundenes Metall mit hoher Reinheit als Sputterziel für verschiedene Substrate

Coating Method: Sputtering
Thickness: 10-600mm
Surface Finish: Polished
CHINA 99.99% Reinheit HIP Rund elektrostatische Pulverbeschichtungspistole mit polierter Oberflächenveredelung

99.99% Reinheit HIP Rund elektrostatische Pulverbeschichtungspistole mit polierter Oberflächenveredelung

Shape: Round
Thickness: 10-600mm
Coating Method: Sputtering
CHINA Indiumgebundene HIP-Metall-Sputterziele für verschiedene Filmbeschichtungen

Indiumgebundene HIP-Metall-Sputterziele für verschiedene Filmbeschichtungen

Target Bonding: Indium
Forming Process: Hot Isostatic Pressing(HIP)
Surface: Polished, Anodizing
CHINA Titan Sputtering Target Disc 98x14mm 97x16mm ASTM F67 Für Oralprothesen

Titan Sputtering Target Disc 98x14mm 97x16mm ASTM F67 Für Oralprothesen

Material: Titan-Gr1 Gr2 Gr3 Gr4
Standards: ASTM F67
Form: Diskette/Runde
CHINA Metall-spritzenziel-vernickeln Titan- Aluminium-Chrome-Zirkonium beschichtende Verdampfung des Niobium-Tantal-Molybdän-PVD

Metall-spritzenziel-vernickeln Titan- Aluminium-Chrome-Zirkonium beschichtende Verdampfung des Niobium-Tantal-Molybdän-PVD

Material: Titan- Aluminium-Chrome-Zirkonium vernickeln Niobium-Tantal-Molybdän
Form: Zylinder/planares, rund/Platte/Rohr
Größe: Runde: Φ100*40, Φ98*40, Φ95*45, Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 usw. (D) 70/100* (H) 100-2000mm
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