Indium-Legierung Sputtering Ziel mit kundenspezifischen Substraten poliert und anodiert

Beschreibung des Produkts:

Unser Metal Sputtering Target-Produkt verfügt über eine polierte und anodisierte Oberfläche, die Ihnen eine glatte und saubere Oberfläche für Ihren Metalldeponierungsprozess bietet.Die individuelle Substratkompatibilität dieses Produkts unterscheidet es von anderen auf dem Markt erhältlichen MetallsputterzielenMit dieser Funktion können Sie sicher sein, dass dieses Produkt mit Ihrem spezifischen Substratmaterial kompatibel ist und einen effizienteren und effektiveren Ablagerungsprozess gewährleistet.

Unser Produkt ist nicht nur vielseitig, sondern auch langlebig.Sicherstellung, dass sie ihren Zweck lange erfülltDie Haltbarkeit ist auch bei Verwendung in einem Freifall-Metalldetektor nachgewiesen, wo er dem Aufprall von Metallpartikeln standhält.

Holen Sie sich heute noch unser Metal Sputtering Target Produkt und erleben Sie den Unterschied in Ihrem Metalldeposition-Prozess.angepasste Dichte und Kristallstruktur, und kundenspezifische Substratkompatibilität machen es zur perfekten Wahl für Ihre Metalldeposition.

Eigenschaften:

• Produktbezeichnung: Metallsputterziel
• Formierungsprozess: heißes isostatisches Pressen (HIP)
• Zielkonfiguration: Einfach oder mehrfach
• Oberflächenrauheit: Ra < 0,8 Um
• Stärke: 10 bis 600 mm
• Kristallstruktur: angepasst

Technische Parameter:

Anwendungen:

Das Produkt Metal Sputtering Target ist je nach den spezifischen Anforderungen des Anwendungsbereichs in Einzel- oder Mehrfachkonfigurationen erhältlich.die eine starke Bindung zwischen Ziel und Stützplatte gewährleistetDies gewährleistet, daß das Produkt der hochenergetischen Ionenbombardierung standhält, die häufig mit Sputteranwendungen verbunden ist.

Das Produkt Metal Sputtering Target eignet sich ideal für den Einsatz in einer Vielzahl von Szenarien, beispielsweise bei der Herstellung von H-Beam Stahl,mit einer Breite von mehr als 20 mm,Dies trägt dazu bei, die Haltbarkeit und Leistungsfähigkeit des Stahls zu verbessern, wodurch es für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen ideal ist.

Das Erzeugnis kann auch bei der Herstellung von Fördermaschinen zur Metalldetektion verwendet werden.das Produkt Metal Sputtering Target wird verwendet, um einen dünnen Film zu erzeugen, der auf die Oberfläche des Förderbandes gelegt wirdDie dünne Folie trägt dazu bei, die Empfindlichkeit des Metalldetektors zu verbessern, wodurch er Metallgegenstände, die sich auf dem Förderband befinden können, effektiver erkennen kann.

Das Produkt mit Metallsputtering Target ist mit einer Oberflächenrauheit von Ra < 0,8 Um ausgelegt. Dies gewährleistet eine hohe Gleichmäßigkeit und Konsistenz des Produkts,der für die Erzielung hochwertiger Sputterergebnisse unerlässlich istDas Produkt ist außerdem so konzipiert, dass es sehr langlebig ist und dem hochenergetischen Ionenbombardement widersteht, das häufig bei Sputteranwendungen auftritt.

Anpassung:

Passen Sie Ihr Produkt für Metall-Sputtering-Ziel mit unseren Produkt-Anpassungsdiensten an.

Kristallstruktur:Individualisiert

Oberfläche:Polstert,Anodisierung

Reinheit:99.99%

Beschichtungsmethode:Sputtern

Technik:Schmiede und CNC-Bearbeitung

Mit unserer elektrostatischen Pulverbeschichtungsknarre wird Ihr Ziel eine hochwertige Beschichtung haben, die gleichzeitig gleichbleibend und langlebig ist.Sie können sicher sein, dass Ihr Produkt frei von Verunreinigungen istLassen Sie uns Ihnen helfen, ein maßgeschneidertes Metal Sputtering Target zu erstellen, das Ihre genauen Spezifikationen erfüllt.

Unterstützung und Dienstleistungen:

Unsere Metall-Sprühziele werden nach höchsten Qualitätsstandards hergestellt und sind in verschiedenen Materialien und Größen erhältlich.Unser technisches Support-Team steht Ihnen bei Fragen oder Problemen im Zusammenhang mit der Nutzung unserer Produkte zur Verfügung.Wir bieten auch eine Reihe von Dienstleistungen an, darunter Target Binding, Target Recycling und Custom Target Manufacturing.Unser Ziel ist es, unseren Kunden das bestmögliche Erlebnis bei der Verwendung unserer Metall-Sputterziele zu bieten.