Indiumgebundene HIP-Metall-Sputterziele für verschiedene Filmbeschichtungen

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Produktdetails
Target Bonding Indium Forming Process Hot Isostatic Pressing(HIP)
Surface Polished, Anodizing Material Metal
Thickness 10-600mm Density Customized
Coating Method Sputtering Crystal Structure Customized
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Ziel für die HIP-Metallsputterung

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Indiumgebundenes Metall-Sputterziel

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Filmbeschichtungen Metallsputterziel

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Produkt-Beschreibung

Beschreibung des Produkts:

Aus hochwertigen Metallmaterialien gefertigt, ist unser Metal Sputtering Target dauerhaft gebaut.Dieses Produkt ist perfekt für eine Vielzahl von Anwendungen und kompatibel mit kundenspezifischen Substraten.

Unser Produkt ist mit Indium verbunden, was eine starke und sichere Bindung gewährleistet, die auch unter den anspruchsvollsten Bedingungen hält.einschließlich Halbleiterherstellung und Dünnschichtdeposition.

Egal, ob Sie einen I-Beam aus Kohlenstoffstahl oder eine elektrostatische Pulverbeschichtungsgeschütze verwenden, unser Metal Sputtering Target Produkt bietet Ihnen die Präzision und Genauigkeit, die Sie für Ihr Projekt benötigen.Vertrauen Sie auf unser Produkt, um jedes Mal die besten Ergebnisse zu liefern.


Eigenschaften:

  • Produktbezeichnung: Metallsputterziel
  • Formverfahren: Heißes isostatisches Pressen (HIP)
  • Oberflächenveredelung: poliert
  • Stärke: 10 bis 600 mm
  • Form: rund
  • Oberfläche: Poliert, anodisiert

Unser Metallsputtering-Ziel wird mit dem Hot Isostatic Pressing (HIP) -Prozess hergestellt, was zu einem hochwertigen Produkt mit polierter Oberfläche führt.und die Form ist rundDie Zieloberfläche ist in polierter oder anhodierter Oberfläche erhältlich, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.3D-Druck Metallpulver, und Industrie-Metalldetektor-Fahrzeug.


Technische Parameter:

Eigenschaft Wert
Form Runde
Zielkonfiguration Einfach oder mehrfach
Zielbindung Indium
Kristallstruktur Individualisiert
Technik Schmiede und CNC-Bearbeitung
Formierungsprozess Warmes isostatisches Pressen (HIP)
Material Metall
Stärke 10 bis 600 mm
Oberflächenbearbeitung Polstert
Dichte Individualisiert

Anwendungen:


Anpassung:

Das Produkt Metal Sputtering Target ist mit individuell angepassten Dienstleistungen ausgestattet, um Ihren spezifischen Bedürfnissen gerecht zu werden.und die Kristallstruktur kann an Ihre Anforderungen angepasst werdenDas Zielmaterial besteht aus Legierungsstahlmetall, was für Haltbarkeit und Langlebigkeit sorgt..

Unser Expertenteam kann Ihnen bei der Produktanpassung für Ihre spezifischen Anwendungsbedürfnisse helfen, egal ob Sie die Reinheit, Form, Kristallstruktur oder Oberfläche des Ziels ändern müssen.Wir können Ihnen helfen, die gewünschten Ergebnisse zu erzielen.Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unsere Produktanpassungsdienste zu erfahren.

Unser Metal Sputtering Target Produkt ist perfekt für verschiedene Anwendungen wie Carbon Steel I Beam, Conveyor Metal Detector Machine und mehr.


Unterstützung und Dienstleistungen:

Wir bieten eine Reihe von Zielmaterialien an, darunter Gold, Silber, Kupfer, Aluminium,Unsere Ziele sind in verschiedenen Größen und Konfigurationen erhältlich, um Ihren spezifischen Anwendungsbedürfnissen gerecht zu werden.

Zusätzlich zu unseren hochwertigen Zielen bieten wir auch technische Unterstützung und Dienstleistungen, um die optimale Leistung Ihres Sputtersystems zu gewährleisten.FehlerbehebungWir bieten auch Zielverbindungsdienste an, um eine sichere und zuverlässige Verbindung zwischen Ziel und Stützplatte herzustellen.

In unserer hochmodernen Anlage verwenden wir fortschrittliche Fertigungstechniken und strenge Qualitätskontrollverfahren, um Ziele von höchster Qualität zu liefern.Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unsere Metallsputtering-Ziele zu erfahren und wie wir Ihre Sputtering-Anwendungen unterstützen können.