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Metall-spritzenziel-vernickeln Titan- Aluminium-Chrome-Zirkonium beschichtende Verdampfung des Niobium-Tantal-Molybdän-PVD
| Herkunftsort | China |
|---|---|
| Markenname | CSTI |
| Zertifizierung | ISO9001 |
| Modellnummer | 20221010 |
| Min Bestellmenge | 1-teilig |
| Preis | $35.00 - $125.00/ kg |
| Verpackung Informationen | Vakuumversiegeltes Paketinnere; Exportholzetui oder -karton draußen |
| Lieferzeit | 7~20 Arbeitstage |
| Zahlungsbedingungen | T/T, L/C |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | 10000-teilig/Stücke pro Monat |
Treten Sie mit mir für freie Proben und Kupons in Verbindung.
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xProduktdetails
| Material | Titan- Aluminium-Chrome-Zirkonium vernickeln Niobium-Tantal-Molybdän | Form | Zylinder/planares, rund/Platte/Rohr |
|---|---|---|---|
| Größe | Runde: Φ100*40, Φ98*40, Φ95*45, Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 usw. (D) 70/100* (H) 100-2000mm | Reinheit | 2N5-5N |
| Anwendung | PVD-Beschichtung, Galvanisierungsfeld, Dünnfilm-Beschichtung, Glasindustrie | Farbe der Beschichtung | Rosen-Gold/Kaffee/Champagnergold/-gewehr grau/schwarz/Gold/Blau/Regenbogen/helles Schwarzes/silbern/ |
| Hervorheben | Verdampfungs-Metallspritzenziel PVD beschichtendes,Rundes Niobium-Spritzenziel,Aluminiumniobium-Spritzenziel |
||
Produkt-Beschreibung
Metallsputtering Ziel Titan Aluminium Chrom Zirkonium Nickel Niob Tantal Molybdän PVD Beschichtung Verdunstung
Metallsputterziele werden in physikalischen Dampfdeposition (PVD) -Prozessen verwendet, um Materialien mit einer dünnen Metallschicht zu beschichten.Chrom, Zirkonium, Nickel, Niob, Tantal und Molybdän.
| Artikel | Reinheit | Dichte | Farbe der Beschichtung | Form | Standardgröße | |
| Titanium-Aluminium (TiAl) -Legierungsziele | 2N8-4N | 3.6 bis 4.2 | Roségold/Kaffee-/Champagnergold | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm |
PVD-Dekorationsbeschichtung & harte Beschichtung |
| Reinchrom (Cr) Ziel | 2N7-4N | 7.19 | schwarz/pistolengrau | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Titan (Ti) | 2N8-4N | 4.51 | Gold/Rosen-Gold/Blau/Regenbogen/Halbschwarz/Pistole-Grau | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Zirkonium ((Zr)) | 2N5-4N | 6.5 | Lichtgold | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Aluminium (Al) | 4N-5N | 2.7 | Silber | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Nickel (Ni) | 3N-4N | 8.9 | Nickel | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Niob (Nb) | 3N | 8.57 | Weiß | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Tantal ((Ta) | 3N5 | 16.4 | schwarz/rein | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Ziel für reines Molybdän | 3N5 | 10.2 | schwarz | Zylinder/Flächenform | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
| Anmerkungen: Die Größe kann nach spezifischen Anforderungen angepasst werden. | ||||||
Anwendungsbereich
Verwendet in Ablagerungsprozessen, einschließlich Halbleiter Ablagerung, chemische Dampf Ablagerung (CVD) und physikalische Dampf Ablagerung (PVD)
Verwendung für Optik, einschließlich Verschleißschutz, dekorative Beschichtungen und Displays
Produktvorteil
01Hohe chemische Reinheit
02Niedriger Gasanteil
03Nähe von 100% Dichte
04Einheitliche Körner
05Dichte und homogene Innenstruktur
Metallsputterziele für verschiedene Anwendungen der physikalischen Dampfdeposition (PVD) und der Verdunstungsbeschichtung
Hier sind einige Einzelheiten zu den spezifischen Metallen:
1.Titanium: Titansputterziele werden häufig in PVD- und Verdunstungsbeschichtungsanwendungen verwendet, um dünne Folien auf eine Reihe von Substraten abzulegen.Titan ist ein beliebtes Material für Beschichtungen, da es sowohl biokompatibel als auch mit hervorragenden mechanischen Eigenschaften ausgestattet ist
2.Aluminium: Aluminium-Sputterziele werden auch in PVD- und Verdunstungsbeschichtungsanwendungen verwendet, insbesondere bei der Herstellung von reflektierenden Beschichtungen und elektronischen Komponenten.Aluminiumbeschichtungen haben eine gute elektrische Leitfähigkeit und sind hochreflektierend, so daß sie sich ideal für die Verwendung in optischen und elektronischen Anwendungen eignen.
3.Chrom: Chrom-Sputterziele werden in PVD- und Verdampfungsbeschichtungen für eine Reihe von industriellen und dekorativen Zwecken verwendet, einschließlich der Herstellung von dekorativen Beschichtungen,Fahrzeugkomponenten, und elektronische Komponenten.
4Zirkonium: Zirkonium-Sputterziele werden häufig für ihren hohen Schmelzpunkt und ihre hervorragende Korrosionsbeständigkeit in PVD- und Verdunstungsbeschichtungen verwendet.Zirkoniumbeschichtungen werden häufig bei der Herstellung von Dekorationsbeschichtungen und Hochleistungs-elektronischen Komponenten verwendet.
5.Nickel: Nickel-Sputterziele werden in der PVD- und Verdunstungsbeschichtung, insbesondere bei der Herstellung von magnetischen Dünnfolien und Beschichtungen für elektronische Bauteile, weit verbreitet.Nickelbeschichtungen werden auch häufig in dekorativen Anwendungen verwendet.
6Niobium: Niobium-Sputterziele werden in PVD- und Verdunstungsbeschichtungsanwendungen für ihren hohen Schmelzpunkt, ihren geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten und ihre ausgezeichnete chemische Beständigkeit verwendet.Niobbeschichtungen werden häufig bei der Herstellung leistungsstarker elektronischer Komponenten und optischer Beschichtungen verwendet.
7.Tantal: Tantal-Sputterziele werden in PVD- und Verdunstungsbeschichtungen wegen ihres hohen Schmelzpunktes, ihrer hervorragenden chemischen Beständigkeit und ihres geringen Dampfdrucks verwendet.Tantalbeschichtungen werden häufig bei der Herstellung von Kondensatoren verwendet, elektronische Komponenten und medizinische Implantate.
8.Molybdän: Molybdän-Sputterziele werden in PVD- und Verdunstungsbeschichtungsanwendungen wegen ihres hohen Schmelzpunktes, ihres geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten,und hervorragende elektrische LeitfähigkeitMolybdänbeschichtungen werden häufig bei der Herstellung leistungsstarker elektronischer Komponenten und optischer Beschichtungen verwendet.
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