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Sputtertarget Chrom Cr 100x40mm Heißisostatisches Pressen
| Herkunftsort | CHINA |
|---|---|
| Markenname | CSTI |
| Zertifizierung | ISO9001:2015 |
| Modellnummer | 20221110 |
| Min Bestellmenge | 1-teilig |
| Preis | $55.00 - $150/pc |
| Verpackung Informationen | Vakuumversiegeltes Paketinnere; Exportholzetui oder -karton draußen |
| Lieferzeit | 7~20 Arbeitstage |
| Zahlungsbedingungen | T/T, L/C |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | 10000-teilig/Stücke pro Monat |
Treten Sie mit mir für freie Proben und Kupons in Verbindung.
whatsapp:0086 18588475571
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xProduktdetails
| Material | Chromium/Cr | Reinheit | 99.5%~99.95% |
|---|---|---|---|
| Größe | φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm usw. | Formung des Prozesses | heißes isostatic Drücken (HIP) |
| Form | rechteckiges Ziel, Bogenziel, Ringplatte und großes Längenverhältnis bildeten integral Rohrziel usw. | Anwendung | dekorative Beschichtung, Werkzeugbeschichtung, Beschichtung der flachen Anzeige, Dünnfilmsolarindust |
| Markieren | Metall-Sputter-Chrom-Target,heißes isostatisches Press-Chrom-Target,rechteckiges Cr-Planar-Target |
||
Produkt-Beschreibung
Chrom sputternZiel
Das Chrom sputternDas Targetmaterial wird durch das fortschrittliche Heißisostat-Pressverfahren (HIP) hergestellt.SputternZu den Zielen gehören rechteckige Targets, Lichtbogentargets, Ringtargets und integral geformte Rohrtargets mit großem Aspektverhältnis usw. mit kontrollierbarer Reinheit und Dichte sowie feinen und gleichmäßigen Körnern, langer Lebensdauer und anderen Vorteilen.
Reinheit:99,5 % ~ 99,95 %;
Umformprozess:heißisostatisches Pressen (HIP);
Konventionelle Größe:ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm usw.;
Anwendung:dekorative Beschichtung, Werkzeugbeschichtung, Flachdisplaybeschichtung, Dünnschicht-Solarindustrie, Flachbildschirmindustrie, energiesparende Glasindustrie, optische Beschichtungsindustrie (z. B. Beschichtung von Autorückspiegeln) usw.
| ChromSputternZiel | Produktleistung | ||
| Reinheit | 99,5 | 99,95 | |
| Dichte g/cm3 | ≥7.12 | ≥7.12 | |
| Korngröße/μm | ≤100 | ≤100 | |
| Gesamtgehalt an metallischen Verunreinigungen/ppm | ≤5000 | ≤500 | |
| Wärmeleitfähigkeit/W/mK | 60 | 100 | |
| Wärmeausdehnungskoeffizient/1/K | 8×10-6 | 8×10-6 | |
| Größe/mm | Planares Ziel | ≤1600×500 | ≤1600×500 |
| Rotierendes Ziel | Integrale Umformung durch HIP Länge ≤ 4000 Dicke ≤ 15 |
Integrale Umformung durch HIP Länge ≤ 4000 Dicke ≤ 15 |
|
Chrom-Sputtertarget 2N5 (Spurenelemente)PPM ≥7,12 g/cm3
| Komposition | Fe | Al | Si | C | S | Ö | N |
| Standard | ≤1500 | ≤1200 | ≤1500 | ≤200 | ≤50 | ≤1400 | ≤300 |
| Testwerte | 980 | 300 | 600 | 62 | 50 | 1200 | 200 |
ChromSputtern target 2N8 (Spurenelemente)PPM ≥7,12g/cm3
| Komposition | Fe | Al | Si | C | S | Ö | N |
| Standard | ≤800 | ≤300 | ≤400 | ≤200 | ≤50 | ≤1000 | ≤100 |
| Testwerte | 740 | 78 | 92 | 84 | 50 | 340 | 30 |
ChromSputternZiel 3N (Spurenelemente)PPM ≥7,12g/cm3
| Komposition | Fe | Al | Si | C | S | Ö | N |
| Standard | ≤500 | ≤100 | ≤150 | ≤150 | ≤30 | ≤500 | ≤100 |
| Testwerte | 290 | 47 | 80 | 90 | 28 | 450 | 50 |
ChromSputternZiel 3N5 (Spurenelemente)PPM ≥7,12g/cm3
| Komposition | Fe | Al | Si | Cu | Ｎich | C | S | Ö | N |
| Standard | ≤100 | ≤50 | ≤50 | ≤10 | ≤50 | ≤50 | ≤30 | ≤150 | ≤80 |
| Testwerte | 50 | 45 | 40 | 7 | 10 | 24 | 27 | 137 | 30 |
Auch andere Ziele sind lieferbar
| Artikel | Reinheit | Dichte | Streichfarbe | Form | Standardgröße | |
| Ziel aus Titan-Aluminium-Legierung (TiAl). | 2N8-4N | 3.6-4.2 | Roségold/Kaffee/Champagnergold | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm |
Solar-Photovoltaik-Industrie, dekorative Beschichtungsindustrie, flach |
| Reines Chrom (Cr)-Ziel | 2N7-4N | 7.19 | Pistolengrau/Schwarz | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Ziel aus reinem Titan (Ti). | 2N8-4N | 4.51 | Gold/Roségold/Blau/Regenbogen/Hellschwarz/Grau | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Reines Zirkonium(Zr)-Target | 2N5-4N | 6.5 | hell Gold | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Ziel aus reinem Aluminium (Al). | 4N-5N | 2.7 | Silber | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Ziel aus reinem Nickel (Ni). | 3N-4N | 8.9 | Nickel | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Ziel aus reinem Niob (Nb). | 3N | 8.57 | Weiss | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Reines Tantal(Ta)-Target | 3N5 | 16.4 | schwarz/rein | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Reines Molybdän (Mo)-Target | 3N5 | 10.2 | Schwarz | Zylinder/planar | (T)70/100*(H)100-2000mm | |
| Anmerkungen: Die Größe kann je nach spezifischen Anforderungen angepasst werden | ||||||
Produktvorteil
01Hohe chemische Reinheit
02Niedriger Gasgehalt
03Nahezu 100 % Dichte
04Einheitliche Körner
05Dichte und homogene Innenstruktur
Anwendungsgebiet des Sputtertargets
Solar-Photovoltaik-Industrie
dekorative Beschichtungsindustrie
WohnungPanel-Display-Industrie
Architekturglas/Automobilglasindustrie
flexible Wickelbeschichtungsindustrie
optische DatenSpeicherindustrie
optische Kommunikation/optische Industrie
magnetische Datenspeicherung sowie Halbleiterindustrie
Schild:Chrom sputternZiel, Cr-Ziel, Cr-planares Ziel,dekorative Beschichtung, Werkzeugbeschichtung, Flachdisplaybeschichtung, Dünnschicht-Solarindustrie, Flachbildschirmindustrie, energiesparende Glasindustrie, optische Beschichtungsindustrie
Empfohlene Produkte
